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État de disponibilité: | |
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Des lentilles à ménisque positif peuvent être utilisées pour augmenter l'ouverture numérique d'un ensemble de lentilles positives, sans augmentation excessive des aberrations.
Matériel: | BK7, silice fondue, SF10, CaF2, saphir, etc. |
Tolérance de distance focale paraxiale : | ±2% |
Tolérance dimensionnelle : | ±0,2 (général).±0,05 (haute précision) |
Centration : | <3 minutes d'arc |
TRI : | λ/4 @ 633 nm (général), λ/10 @ 633 nm (haute précision) |
Ouverture claire : | > 80 % (petite taille), > 95 % (taille grande) |
Chiffre de surface : | <1,5λ@633nm (général),<λ/4@633nm (haute précision) |
Qualité de surface: | 60/40 (général), 10/5 (haute précision) |
Biseau: | <0,25mm |
Enrobage: | Non caoté, AR, PR, RH, etc. |
Des lentilles à ménisque positif peuvent être utilisées pour augmenter l'ouverture numérique d'un ensemble de lentilles positives, sans augmentation excessive des aberrations.
Matériel: | BK7, silice fondue, SF10, CaF2, saphir, etc. |
Tolérance de distance focale paraxiale : | ±2% |
Tolérance dimensionnelle : | ±0,2 (général).±0,05 (haute précision) |
Centration : | <3 minutes d'arc |
TRI : | λ/4 @ 633 nm (général), λ/10 @ 633 nm (haute précision) |
Ouverture claire : | > 80 % (petite taille), > 95 % (taille grande) |
Chiffre de surface : | <1,5λ@633nm (général),<λ/4@633nm (haute précision) |
Qualité de surface: | 60/40 (général), 10/5 (haute précision) |
Biseau: | <0,25mm |
Enrobage: | Non caoté, AR, PR, RH, etc. |